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Deigendesch, T.

 
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thumbnail of29288009 The Application of Design Process Patterns exemplified by the C&CM Sequence Model, in: IWK - Internationales wissenschaftliches Kolloquium // Technische Universität Ilmenau; Tagungsband, 53. IWK - Internationales Wissenschaftliches Kolloquium
Auteur: Albers, Albert; Deigendesch, T.; Alink, Thomas
Publié: 2008
 
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